摘要離子濺射儀（非磁控）/中西器材 型號(hào):HFD-12庫號(hào)：M363288 查看hh注明：本型號(hào)和非磁控差不多，沒有鏈條設(shè)計(jì)的，需要把蓋拿起來放在旁邊，再放樣品 簡介： 此款小型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制...

摘要 小型離子濺射儀/只能濺射　 型號(hào):BZ19-SBC-12庫號(hào)：M121692 主要性能指標(biāo)：玻璃處理室：Φ100mm、高度130mm試樣臺(tái)尺寸：Φ40mm可同時(shí)放6個(gè)樣品杯金靶尺寸：Φ58mm

摘要 SD-900型離子濺射儀是采用二級(jí)（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的離子濺射鍍膜設(shè)備

摘要 韓國SAM公司離子濺射儀

摘要 COWAQ S150RTL-1自動(dòng)真空磁控離子濺射鍍膜儀

摘要 日立離子濺射儀MC1000 Ⅱ

摘要 離子濺射儀是為電鏡制樣設(shè)計(jì)的離子濺射噴金儀，實(shí)現(xiàn)離子在樣品表面濺射,形成金屬薄膜

摘要 JY-S100離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上小型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜

摘要天澤智能 電鏡離子濺射儀耗材Eponate 12™環(huán)氧樹脂包埋套裝是美國TedPella公司產(chǎn)品。配比與Pon812相同。其黏度為25℃時(shí)是15-21cP，比重為1.15-1.22g/ml，聚合時(shí)間：60°C下16-24小時(shí)，若使用微波處理儀...

摘要此款TZZN-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導(dǎo)電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩(wěn)定，操作簡單方便。采用磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，保護(hù)樣品。主要特點(diǎn):² 顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗(yàn)，方便觀察操作；&...

摘要 產(chǎn)品介紹INTRODUCTION特點(diǎn)FEATURES簡單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美

摘要 主要性能指標(biāo)：玻璃處理室：Φ100mm、高度130mm試樣臺(tái)尺寸：Φ40mm可同時(shí)放6個(gè)樣品杯金靶尺寸：Φ58mm真空系統(tǒng)：直聯(lián)旋片真空泵2L／S真空檢測：皮氏計(jì)真空保護(hù)：20Pa配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣

摘要 IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對(duì)樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡便，無需通入特殊氣體，使用時(shí)只需設(shè)置噴鍍時(shí)間即可

摘要 VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀，基片尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式

摘要 GSL1100X-SPC16-3等離子3靶濺射儀是一款經(jīng)過CE認(rèn)證的緊湊型等離子鍍膜機(jī)

摘要 GSL-1100X-SPC-16M是一款緊湊型的磁控等離子濺射儀，采用雙旋片機(jī)械泵進(jìn)行抽真空

摘要 型號(hào)：JS-1600離子濺射儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備

摘要 產(chǎn)品說明：本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器

摘要 特點(diǎn)：由白噪聲信號(hào)發(fā)生器、粉紅噪聲信號(hào)發(fā)生器、－3dB/oct濾波器和壓縮放大器四部分組成，具有小型、輕便、功能齊全的特點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于電聲學(xué)、建筑聲學(xué)、振動(dòng)音響設(shè)備等方面

摘要 VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型)，基片尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式

摘要 VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀，其靶頭尺寸為2英寸，并且樣品臺(tái)的高度可以調(diào)節(jié)

摘要 GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜

摘要 描述全自動(dòng)操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺(tái)式掃描電鏡等濺射電流自動(dòng)調(diào)整設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜5%；無需按實(shí)驗(yàn)鍵調(diào)整濺射電流、無需操作進(jìn)氣閥

摘要 描述基本無溫升、樣品表面無熱損失GVC-2000制樣效果圖其他制樣設(shè)備效果圖上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片

摘要天澤智能 標(biāo)準(zhǔn)離子濺射鍍膜儀 自動(dòng)控制主要應(yīng)用：適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜、鉑金、銀、鎳、銅等），儀器操作簡單方便，是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣儀器。是制備低維度，小尺寸納米材料器件實(shí)驗(yàn)手段，廣泛應(yīng)用于集成電路，光子晶體，低維半導(dǎo)體、微生物、超微膜...

摘要TZZN-1000磁控離子鍍膜儀 離子濺射儀主要應(yīng)用：適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜、鉑金、銀、鎳、銅等），儀器操作簡單方便，是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。是制備低維度，小尺寸納米材料器件實(shí)驗(yàn)手段，廣泛應(yīng)用于集成電路，光子晶體，低維半導(dǎo)體、微生物、超...

摘要 一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜。

摘要GVC-1000直流離子濺射儀 在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及人機(jī)界面方面更加注重人性，簡單智能； 對(duì)于SEM樣品常規(guī)適用黃金濺射； 能夠極為有效的提供樣品的導(dǎo)電性及導(dǎo)熱性； 減少等離子體對(duì)樣品的熱影響和離子轟擊損傷，顯著提供掃描電...

摘要 GVC-2000磁控離子濺射儀 全自動(dòng)控制，無需調(diào)整針閥鍍膜顆粒小，無熱損傷靶材更換非常簡單特殊密封結(jié)構(gòu)，玻璃不易損壞內(nèi)置操作向?qū)В瑹o需培訓(xùn)即可熟練操作

摘要 108是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜

摘要 應(yīng)用于掃描電子顯微鏡（SEM)樣品噴鍍的離子濺射儀/噴碳儀與普通電源、真空控制基座組成一個(gè)有機(jī)的整體·濺射儀（噴金儀）和噴碳儀合二為一，提高了整機(jī)的性價(jià)比！·操作便利的長形工作臺(tái)有效地節(jié)省了空間

摘要 SP-010濺射模塊主要配置與CUU-010HV高真空離子濺射儀所進(jìn)行使用，此款模塊結(jié)構(gòu)簡單可靠，具備在高真空下進(jìn)行高質(zhì)量濺射鍍膜需要，此模塊把磁控管、靶材、擋板、工藝壓力調(diào)節(jié)器和電源器件整合到一個(gè)的、耐用的裝置中，裝置準(zhǔn)備就緒，隨時(shí)可以運(yùn)行，并且便于維護(hù)

摘要 離子濺射儀集合了二極濺射模式之精華，并經(jīng)重新定義設(shè)計(jì)，的電流與真空度記錄曲線相結(jié)合可以進(jìn)行常規(guī)的樣品制樣，還可以滿足各種復(fù)雜特殊材料的樣品制備要求，對(duì)于高分子薄膜，地質(zhì)材料，半導(dǎo)體材料等各種樣品的制備可以輕松應(yīng)用

摘要 Agar全自動(dòng)噴金儀（離子濺射儀）為英國進(jìn)口離子濺射儀設(shè)備，操作簡單，適用于掃描電鏡樣品制備，可噴金、鉑、金/鈀、鉑/鈀、銀等

摘要 智能模塊化設(shè)計(jì)CCU-010是一種緊湊型全自動(dòng)高真空離子濺射儀，同時(shí)可以通過更換靶頭作為高真空碳鍍膜機(jī)進(jìn)行使用，使用非常簡單

摘要 GVC-2000離子濺射儀 濺射電流與壓力無關(guān)、基本沒有熱損傷；在較好的真空、較低的電壓下即可獲得較大的電流；更適用場發(fā)射等高分辨觀電極制備。

摘要GVC-1000離子濺射儀 在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及人機(jī)界面方面更加注重人性，簡單智能； 對(duì)于SEM樣品常規(guī)適用黃金濺射； 能夠極為有效的提供樣品的導(dǎo)電性及導(dǎo)熱性； 減少等離子體對(duì)樣品的熱影響和離子轟擊損傷，顯著提供掃描電鏡觀...

摘要 GVC-1200離子濺射儀 易于使用的基本濺射涂布機(jī)； 設(shè)備內(nèi)置操作向?qū)В诓僮魅藛T更換時(shí)，無需培訓(xùn)，即可快速熟練操作設(shè)備； 實(shí)體按鍵，安全。

摘要 英國Emitech高真空離子濺射儀K575X/K575D使用渦輪泵，前級(jí)為旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵，整個(gè)抽真空過程為自動(dòng)控制

摘要 英國Emitech全自動(dòng)磁控離子濺射儀K550X具有旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，它也可傾斜，非常適合各種樣品使用

摘要 BJJ-16型離子濺射儀外觀亮麗做工精致，旋鈕式定時(shí)器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風(fēng)范；前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質(zhì)量好；功能控制和定時(shí)皆由CPU調(diào)度，使用范圍廣

摘要 離子濺射儀

摘要 108Auto 離子濺射儀（鍍金儀）

摘要 VTC-16-3HD 3靶等離子濺射儀

摘要 品牌：廣州競贏型號(hào)：JYSC-100 簡介：此款小型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制樣的儀器